關于RPD系列
RPD-1000 (ITO/AlN)
RPD系列是高性能LED膜(ITO/AlN)低成本生產可能的反應性等離子源鍍膜機。
- 特征
- 通過反應性等離子源同時實現(xiàn)成膜材料的蒸發(fā)及活性化
- 通過能量鍍制高品質的結晶膜
- 與常規(guī)蒸鍍相較,實現(xiàn)低溫、低成本量產
- 規(guī)格
- 真空室 Ф1000mm×H 1165mm
- 基板架 Ф870 mm
- 基板架轉速 10~30rpm
- 晶振式膜厚計 6點式水晶傳感器
- 蒸發(fā)源 反應性等離子源
- 性能
- 達到壓力 1.0E-4 Pa 以下
- 排氣時間 20分以下(大氣壓~1.3×10-3 Pa以下)
- 工作條件
- 設備尺寸 約4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)
- 電源 3相+G,200V±5%, 約75KVA
- 水流量 80升/分以上
- 空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
- 重量 約4000 kg