關于RPD系列

RPD-1000 (ITO/AlN)

RPD系列是高性能LED膜(ITO/AlN)低成本生產可能的反應性等離子源鍍膜機。

特征
通過反應性等離子源同時實現(xiàn)成膜材料的蒸發(fā)及活性化
通過能量鍍制高品質的結晶膜
與常規(guī)蒸鍍相較,實現(xiàn)低溫、低成本量產
規(guī)格
真空室 Ф1000mm×H 1165mm
基板架 Ф870 mm
基板架轉速 10~30rpm
晶振式膜厚計 6點式水晶傳感器
蒸發(fā)源 反應性等離子源
性能
達到壓力 1.0E-4 Pa 以下
排氣時間 20分以下(大氣壓~1.3×10-3 Pa以下)
工作條件
設備尺寸 約4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)
電源 3相+G,200V±5%, 約75KVA
水流量 80升/分以上
空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 約4000 kg